中国首台5纳米光刻机 掩模对准曝光机

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中国首台5纳米光刻机

国家手中的ASML公司已经能够研制出5纳米工艺以上的光刻机，最高甚至能够达到2纳米，中国因为起步晚，并且长期遭遇国外的技术封锁，所以跟国外相比依然存在着一定的差距，想要从28纳米实现到5纳米的突破，那么绝对是一场攻坚战，短时间内想要完全突破难度非常大。

为何光刻机的制造工艺这么重要呢？其实在芯片的制造领域，目前主要使用硅基材料，如果将芯片放大，可以发现，其内部布满密密麻麻的电路图，而这些电路图，正是依靠光刻机的激光雕刻，将其刻蚀在芯片上，光刻机的制造工艺越高，那么所能够刻蚀的芯片也就越复杂，这样所生产出来的芯片，在性能上自然也就越高，难怪西方国家会禁止高端光刻机出口到中国，毕竟一旦国内掌握了这项技术，那么很多国家靠芯片躺着赚钱的时代将彻底过去。

掩模对准曝光机

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

生产集成电路的简要步骤： 利用模版去除晶圆表面的保护膜。 将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。 其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种： 模版和晶圆大小一样，模版不动。 模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。 其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流

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